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          反滲透純水設備

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          實驗室高純水設備

          2019-01-23 02:35:05

                   實驗室高純水設備,食品廠純凈水設備,反滲透純凈水設備,小型桶裝水設備,家有純凈水設備,制水廠桶裝水設備,反滲透設備維修反滲透膜維修更換,PP棉濾芯更換,反滲透膜維修更換,純凈水設備,www.jmmieshu.com

                    高純水制取設備是在雙級反滲透設備的基礎上通過電除鹽技術(現(xiàn)在取代的EDI技術)制取高品質超純水,而EDI技術是水處理工業(yè)的一場成本革命,其大的特點是利用電而不是酸堿對樹脂進行再生,具有出水水質穩(wěn)定、運用費用低、操作管理方便、占地面積小等優(yōu)點,從1986年EDI技術工業(yè)化以來,已廣泛應用于醫(yī)藥、電子、電力和表面清洗等工業(yè)領域,取得了很好的經(jīng)濟效益,受到廣大用戶的青睞,使水處理技術的發(fā)展進入了一個嶄新的階段。
          高純水制備技術發(fā)展史:
          預處理系統(tǒng)--復床系統(tǒng)--混床系統(tǒng)
          早期一般采用上述工藝,酸堿消耗大,運用成本高,對環(huán)境污染嚴重。
          預處理系統(tǒng)--反滲透系統(tǒng)--混床系統(tǒng)
          七、八十年代,一般采用上述工藝,利用膜分離技術降低了運行成本,延長了離子交換再生周期,降低了酸堿的消耗,減少了環(huán)境的污染。
          預處理系統(tǒng)--反滲透系統(tǒng)--EDI
          EDI技術出現(xiàn),更進一步降低了運行成本,無酸堿消耗,對環(huán)境不造成任何污染,使我們真正進入綠色水處理的時代。
           
           EDI (CEDI)技術簡介

               EDI (Electrodeionization)又稱連續(xù)電除鹽技術,它科學地將電滲技術和離子交換技術融為一體,通過陽、陰離子膜對陽、陰離子的選擇透過作用以及離子交換樹脂對水中離子的交換作用,在電場的作用下實現(xiàn)水中離子的定向遷移,從而在到水的深度凈化除鹽,并通過水電解產生的氫離子和氫氧根離子對裝填樹脂進行連續(xù)再生,因此EDI制水過程不需酸、堿化學藥品再生即可連續(xù)制取高品質超純水,它具有技術先進,結構緊湊、操作簡便的優(yōu)點,可廣泛應用于電力、電子、醫(yī)藥、化工、食品和實驗室領域,是水處理技術的綠色
           
           
          EDI工作原理
           1、供給原水進入EDI系統(tǒng),主要部分流入樹脂/膜內部,而另一部分沿膜板外側流動。
           2、以洗去透出膜外的離子。
           3、樹脂截留水中的離子。
           4、被截留的離子在電極作用下,陰離子向正極方向運動,陽離子向負極方向運動。
           5、陽離子透過陽離子膜,排出樹脂/膜之外。
           6、陰離子透過陰離子膜,排出樹脂/膜之外。
           7、濃縮了的離子從廢水流路中排出。
           8、去離子水從樹脂/膜內流出。
           
          EDI優(yōu)點
           1、出水水質具有良好的穩(wěn)定度。
           2、能連續(xù)生產出符合用戶要求的超純水
           3、模塊化生產,并可實現(xiàn)全自動控制
           4、不需酸堿再生,無污水排放
           5、不會因再生而停機
           6、無需再生設備和化學藥品儲運
           7、設備結構緊湊,占地面積小
           8、運行成本和維修成本低
           9、運行操作簡單,勞動強度低。
           
          主要技術指標
           1、淡水進水壓力:0.1Mpa 淡水出水壓力: 0.05-0.2Mpa
           2、濃水進水壓力: 0.1-0.35Mpa 濃水出水壓力: 0.05-0.15 Mpa
           3、原水電導率<10μs/cm(R0產水) 濃水電導率<100μs/cm
           4、出水電阻率10-15MΩ.cm 直流電流: 0.5-3A
           5、電源電壓: 220V 直流電壓: 100-500V
           
          應用領域
          1. 計算機硬盤、半導體材料;
          2. 顯像管、液晶顯示器、電路板和集成電路;
          3. 高純材料及化學試劑;
          4. 實驗室用水
          5. 表面處理工藝用水;
          6. 其他高精密產品。
           


                  

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